Boron B cible
APERÇU
La cible de bore B est une cible métallique couramment utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs . sa pureté peut généralement atteindre plus de 99 .} 99% (4n), et le contenu des impuretés (comme O, C, Fe, etc .) est extrême Adapté aux processus de préparation haut de gamme tels que la pulvérisation du magnétron, l'évaporation du faisceau d'électrons, le dépôt de couche atomique (Ald), etc ., pour répondre aux exigences de précision de différents scénarios. En tant que fournisseur de métaux non ferreux avec plus de 20 ans d'expérience professionnelle, Fanmetal peut également fournir aux clients d'autres cibles de pulvérisation de métal de haute pureté et rentables, telles queCibles de pulvérisation de nickel, Cible zirconium zr702, Cible de chrome, etc .
CARACTÉRISTIQUES
Excellentes propriétés physiques
Il a un point de fusion élevé, de faible densité, une dureté élevée, une forte capacité d'absorption des neutrons et peut toujours maintenir une bonne stabilité structurelle dans des environnements à haute température .
Propriétés électriques et optiques
La transparence et la conductivité optiques sont très bonnes, qui peuvent non seulement être utilisées pour fabriquer des revêtements de film mince optique de haute qualité, mais aussi pour ajuster les propriétés conductrices des matériaux .
Bonnes propriétés chimiques
Il ne réagit pas facilement avec l'eau, l'oxygène et l'acide à température ambiante, et il ne subit pas facilement des réactions chimiques lorsqu'il est utilisé en combinaison avec d'autres matériaux cibles (tels que les métaux et les oxydes), garantissant ainsi des performances de film stables .
Capacité de traitement de moulage forte
La taille cible peut être personnalisée en fonction des exigences de l'équipement, la composition est hautement contrôlable, ce qui peut assurer une efficacité de pulvérisation élevée, et elle peut être combinée avec une variété de matériaux de substrat pour former un film mince avec une forte adhérence .
SPÉCIFICATION
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Matériel |
Bore (b) |
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Pureté |
Supérieur ou égal à 99,99% (4n) |
| Diamètre | 20mm-300mm |
| Épaisseur | 2 mm ~ 20 mm |
| Densité | 2,34 g / cm3 |
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Point de fusion |
2076 degré |
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Dureté |
2000-2500 hv |
| Module élastique | 400-450 gpa |
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Surface |
Nettoyage alcalin poli, broyant, |
| Standard | ASTM B853 |
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Certification |
ISO 9001 |
APPLICATION
1. champ semi-conducteur
Dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs tels que les transistors et les diodes, la cible de bore B est utilisée pour fournir des dopants, qui peuvent contrôler avec précision les propriétés électriques des matériaux semi-conducteurs tels que les cristaux de silicium, atteignant ainsi un contrôle précis des propriétés conductrices du dispositif .
Préparation des films minces d'oxyde de bore-silicium comme couches isolantes ou couches de passivation des dispositifs semi-conducteurs, en utilisant les propriétés de la barrière de diffusion du bore pour améliorer la fiabilité de l'appareil .
2. Champ d'enregistrement magnétique
Préparation de films magnétiques à haute performance: des cibles de bore peuvent être utilisées pour préparer des films d'enregistrement magnétique avec une densité de stockage élevée, un faible bruit et une bonne stabilité thermique . dans les milieux d'enregistrement magnétique, l'ajout de bore peut ajuster les paramètres de performance magnétique pour répondre aux exigences de la technologie de stockage magnétique moderne pour une grande capacité, une grande vitesse et une grande fiabilité .
3. champ aérospatial
Le revêtement de borure préparé par des cibles de bore de haute pureté a un point de fusion extrêmement élevé et une résistance aux chocs thermiques, et peut être utilisé pour les buses de fusée et les revêtements de surface de la lame de turbine, ce qui contribue à réduire le poids des composants tout en résistant à des températures extrêmement élevées et à la corrosion du gaz .
4. revêtement résistant à l'usure dure
La cible de bore B peut former des revêtements durs sur les surfaces des outils, des moules, des pièces mécaniques, etc.
PROCESSUS
La purification physique est d'abord effectuée pour assurer un contenu à faible impureté, ce qui est propice au dépôt de films haute performance .
②La poudre de bore de haute pureté est soumise à un frittage à froid ou à une pression isostatique chaude, et le corps vert est pressé uniformément, et la densité peut atteindre plus de 99% .
La coupe et le broyage des outils de diamant et le polissage sont utilisés pour améliorer la précision dimensionnelle et réduire la rugosité de surface .
Le traitement antérieur est effectué dans une atmosphère sous vide pour éliminer le stress interne pendant le processus de moulage et stabiliser la structure cristalline .
⑤ Le contrôle final de la qualité répond aux normes ISO9001 et répond aux exigences strictes des clients .
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