Cible de pulvérisation ronde en tungstène

Description et application de la cible de pulvérisation ronde en tungstène

La cible est l'un des matériaux indispensables à la technologie de pulvérisation magnétron, et les performances de la cible déterminent plus ou moins les performances et la qualité du film déposé. La cible de pulvérisation ronde en tungstène a le point de fusion le plus élevé parmi tous les éléments métalliques et présente les avantages d'une densité élevée, d'une pureté élevée, d'une structure interne uniforme, d'une bonne stabilité à haute température, d'une forte résistance à la migration des électrons, d'une forte résistance à la corrosion et d'une longue durée de vie. La cible de pulvérisation ronde en tungstène est généralement produite par fusion sous vide et pressage à chaud, suivi d'un laminage, d'une découpe et d'un recuit. Il est le plus couramment utilisé dans l'industrie électronique et l'industrie de l'énergie solaire. Les cibles de pulvérisation rondes en tungstène produites par notre société peuvent également être utilisées dans les industries de la pulvérisation plasma, de l'aérospatiale, de la pétrochimie, du revêtement de verre semi-conducteur, de la construction et de l'espace de stockage d'informations optiques.

Cible de pulvérisation ronde en tungstèneCaractéristiques:

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