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Cible de pulvérisation de nickel
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Cible de pulvérisation de nickel

Cible de pulvérisation de nickel

Nickel Sputtering Target Description Le nickel est un métal blanc argenté avec un bon ferromagnétisme et une bonne plasticité, principalement utilisé dans la fabrication d’alliages, d’acier inoxydable, de pièces de monnaie et de batteries. Le nickel a de fortes propriétés anti-oxydantes et anti-corrosion, et peut former un film d’oxyde dense sur le métal...
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Product Details ofCible de pulvérisation de nickel

Description de la cible de pulvérisation de nickel:

Le nickel est un métal blanc argenté avec un bon ferromagnétisme et une bonne plasticité, principalement utilisé dans la fabrication d’alliages, d’acier inoxydable, de pièces de monnaie et de batteries. Le nickel a de fortes propriétés anti-oxydation et anti-corrosion, et peut former un film d’oxyde dense sur la surface du métal à température ambiante ou dans un environnement humide, ce qui signifie également qu’il peut être transformé en cibles de pulvérisation de nickel pour produire des films de revêtement de haute qualité. Lorsqu’il est évaporé sous vide, le nickel peut former un revêtement décoratif dense et résistant à la corrosion sur des surfaces en céramique ou des couches de soudure dans la fabrication de dispositifs de circuit.

Application cible de pulvérisation de nickel:

Le nickel est un bon matériau de revêtement de pulvérisation alternatif pour les applications EDX et l’imagerie de l’ESB. Le taux de pulvérisation et la qualité des cibles de pulvérisation de nickel sont très bons, et ils sont largement utilisés dans divers domaines, tels que l’industrie du stockage de données, l’électronique, l’industrie des semi-conducteurs, le dépôt de couches minces (CVD et PVD), les films diélectriques de condensateurs, les films photoconducteurs, les communications optiques, les éléments magnétiques et de mémoire, les revêtements de verre (automobile, meubles et construction), etc.


Cible de pulvérisation de nickelSpécifications:

Pureté

99,99(4N),99,995(4N5)

Technique

Pressage isostatique à chaud,Frittage,Forgeage,Recuit

Taille

Φ101,6 à 3,175 mm

Épaisseur

1mm à 10mm

Diamètre

10mm à 360mm

Point de fusion

1453°C

Densité

8,91 g/cm3

Forme

Cylindre,Disque,Tube,Plaque,Anneau

Surface

Polissage, nettoyage alcalin, broyage, oxyde noir, etc.

Normes:

ASTM,GB/T

Certification

ISO9001:2008


Nickel Sputtering Target Images:

Nickel(Ni) Sputtering Target

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