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Cibles de pulvérisation Mo
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Cibles de pulvérisation Mo

Cibles de pulvérisation Mo

Mo Sputtering Targets Model ne le fait pas. :Mo Cibles de pulvérisation Norme : ASTM, GB Surface : Polie, Cynomolgus Application : Pureté du revêtement de surface : 99,95 % minimum Densité : 10,2 g/cm3 Application : revêtement sous vide, semi-conducteur Spécification : ISO9001 : 2015 Notre objectif est d'appliquer aux semi-conducteurs,.. .
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Product Details ofCibles de pulvérisation Mo

Cibles de pulvérisation Mo

Le modèle ne fonctionne pas. :Mo Cibles de pulvérisation

Norme : ASTM, gigaoctet

Surface : Polie, Cynomolgus

Application : revêtement de surface

Pureté : 99,95 % minimum

Densité : 10,2 g/cm3

Application : revêtement sous vide, semi-conducteur

Spécification : ISO9001 : 2015


Spécification des cibles de pulvérisation Mo

Nom du produitMo1 Molybdène Prix cibles du molybdène
MatérielMatière première de molybdène
CouleurOriginal
Pureté Mo>99,95 pour cent
CaractéristiquesDia.({{0}}mm) x épaisseur(0.1-100)mm ;personnaliser au dessin des clients

Traitement de surface

Polissage, Laminage
ApplicationPour la fabrication d'écrans LCD, d'écrans tactiles, de cellules solaires, etc.

Photo des cibles de pulvérisation Mo :

PVD Sputtering Targets (3)

PVD Sputtering Targets (4)

Notre objectif est de s'appliquer aux semi-conducteurs, à l'optique, aux écrans à cristaux liquides, aux circuits intégrés, aux industries haut de gamme, au revêtement sous vide, à l'énergie solaire, à l'énergie verte et aux champs de verre automobile.



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