Cibles de pulvérisation de titane et de silicium

Description des cibles de pulvérisation de titane et de silicium

Le revêtement par pulvérisation cathodique magnétron est un nouveau type de méthode de revêtement physique en phase vapeur, qui utilise un système de canon à électrons pour émettre et concentrer des électrons sur le matériau à revêtir, de sorte que les atomes pulvérisés suivent le principe de conversion de l'impulsion, de sorte que le matériau a une mécanique plus élevée. propriétés. Le matériau à plaquer est appelé cible de pulvérisation, qui comprend principalement des métaux, des alliages et des composés céramiques. La cible de pulvérisation de titane et de silicium peut être divisée en cible plane, cible en arc, cible cylindrique et cible tubulaire. Il est souvent fabriqué par procédé de métallurgie des poudres et possède d'excellentes propriétés physiques et chimiques. Les cibles de pulvérisation en titane et silicium sont la combinaison parfaite de couches de matériaux durs en nitrure, le silicium garantit une résistance élevée à l'oxydation et le titane offre une dureté et une résistance à l'usure exceptionnelles. Les cibles de pulvérisation de titane et de silicium sont largement utilisées dans le dépôt de couches minces, l'industrie du verre, le revêtement sous vide, l'industrie des semi-conducteurs, l'industrie électronique, la technologie de pulvérisation magnétron et l'industrie des revêtements décoratifs.

Spécifications des cibles de pulvérisation de titane et de silicium :

Images de cibles de pulvérisation de titane et de silicium :

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