Cibles de pulvérisation de zirconium à 99,95 %

Description des cibles de pulvérisation en zirconium à 99,95 %

La pulvérisation magnétron est une nouvelle méthode physique de revêtement en phase vapeur, qui utilise un système de canon à électrons pour émettre des électrons et se concentrer sur le matériau à plaquer, de sorte que les atomes pulvérisés suivent le principe de conversion de quantité de mouvement, de sorte que le matériau ait des propriétés mécaniques plus élevées. Les matériaux à déposer sont appelés cibles de pulvérisation cathodique et comprennent principalement des métaux, des alliages et des composés céramiques. Les cibles de pulvérisation en zirconium à 99,95 % sont principalement constituées d'éponge de zirconium et de tiges de cristal de zirconium comme matières premières. Il présente les avantages d'une faible densité, d'une résistance spécifique élevée, d'une résistance à la corrosion, d'une résistance à haute température, d'une résistance à l'usure, d'excellentes performances de traitement, non toxiques, non magnétiques, d'une petite section efficace d'absorption des neutrons thermiques et d'une longue durée de vie. Les cibles de pulvérisation en zirconium à 99,95 % peuvent être utilisées pour pulvériser un revêtement en couche mince de zirconium dur, résistant à l'usure, à la corrosion et esthétiquement agréable sur des outils de travail des métaux ou des produits électroniques afin d'améliorer les performances et la durée de vie des circuits intégrés, des instruments optiques ou des cellules solaires. Notre société peut fournir une cible plate ou une cible de pulvérisation. Si vous en avez besoin, n'hésitez pas à nous envoyer un e-mail.

Spécifications des cibles de pulvérisation en zirconium à 99,95 % :

Images de cibles de pulvérisation de zirconium à 99,95 % :

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