Cible de pulvérisation de titane Ti
Description de la cible de pulvérisation titane Ti
Ces dernières années, avec le développement rapide des circuits intégrés, des écrans plats, de l'énergie solaire et d'autres industries de mon pays, la demande de cibles métalliques utilisées dans le processus de pulvérisation a augmenté rapidement, etCible de pulvérisation de titane Tiest un film fonctionnel très important dans le domaine du matériel d'information électronique. Le titane a une bonne résistance à la corrosion et une bonne adhérence, doncCible de pulvérisation de titane Tiest souvent utilisé pour le dépôt par pulvérisation d'un film de titane pur ou le dépôt par pulvérisation réactive d'un film de TiN, principalement utilisé comme couche barrière de diffusion interconnectée avec de l'aluminium et interconnectée avec du cuivre Une couche de masque dur, une couche de protection pour protéger la couche de film composé de nickel-platine , et une couche anti-reflet. La cible de pulvérisation de titane Ti fournie par notre société a une grande pureté, parmi lesquelles 99,95 %, 99,99 % et 99,995 % de cibles de haute pureté peuvent être produites, et ont également passé des contrôles de qualité stricts, vous pouvez donc commander nos produits en toute confiance.
Spécifications de la cible de pulvérisation titane Ti :
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Grade |
Note 1-4 |
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Technique |
Frittage, forgeage, recuit, laminage, fusion sous vide, usinage |
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Pureté |
99,9 % -99.995 % |
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Diamètre |
<350mm |
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Épaisseur |
1-100mm |
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Taille |
Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1mm) Tube (cible rotative, OD : 20 mm-160 mm, épaisseur :2-20 mm) |
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Densité |
4.54g/cm3 |
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Surface |
Polissage, brillant, nettoyage chimique, oxyde noir, etc. |
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Forme |
Disque, Plaque, Rectangulaire, Carré |
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Standard |
ASTM B385, GO |
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Certificat |
ISO 9001 |
Images de cible de pulvérisation de titane Ti:
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