Cible de bore de pureté de 99,9 %
Description de la cible de bore de pureté de 99,9 %
La cible de bore de pureté de 99,9 % est un équipement de dépôt de couches minces fabriqué à partir de matériaux de bore de haute pureté après une série de traitements tels que le frittage à haute température, le forgeage et le laminage, le polissage et la découpe, qui est généralement utilisé dans les piles à combustible, la décoration, les semi-conducteurs, les écrans, Équipements LED et photovoltaïques, revêtements de verre et autres domaines. La cible de bore de pureté de 99,9 % offre d'excellentes propriétés dans la fabrication de semi-conducteurs et la pulvérisation magnétron. Il peut non seulement produire des films semi-conducteurs de haute qualité dotés de diverses propriétés, mais également fournir un taux de dépôt par pulvérisation magnétron ainsi qu'une pureté et une uniformité élevées des revêtements en couches minces. Notre société peut également fournir d'autres cibles métalliques (telles que le tungstène, le nickel, le titane), si vous en avez besoin, n'hésitez pas à nous envoyer un e-mail.
Spécifications de la cible de bore d'une pureté de 99,9 % :
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Matériel |
Bore(B) |
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Technique |
Pressage isostatique à chaud, raffinage des grains, frittage, forgeage, recuit |
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Pureté |
99.9% |
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Taille |
Disques (diamètre inférieur ou égal à 480 mm, épaisseur supérieure ou égale à 1 mm) |
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Densité |
2,34 g/cm3 |
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Surface |
Poli, nettoyage alcalin, meulage, oxyde noir, etc. |
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Certification |
ISO 9001 |
Images de la cible de bore d'une pureté de 99,9 % :
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