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Cible de pulvérisation de métal

Cible de pulvérisation de titane à 99,9 %

Cible de pulvérisation de titane à 99,9 % Description Le titane est un matériau courant que l'on trouve dans une variété de produits, y compris les montres, les perceuses, les ordinateurs portables

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Cible de pulvérisation en alliage de titane et de silicium

Description de la cible de pulvérisation en alliage de titane et de silicium La cible de pulvérisation est une partie importante de la technologie de pulvérisation magnétron, qui peut être divisée en

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Cibles de pulvérisation de titane et de silicium

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Cibles de pulvérisation planaire en titane et silicium

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Cible de pulvérisation de titane de chrome

Description de la cible de pulvérisation de chrome et de titane La cible est le matériau cible bombardé par des particules énergétiques à grande vitesse. Lorsque des lasers avec différentes densités

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Cible de pulvérisation en alliage de titane et de chrome

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Cible de pulvérisation en titane pur

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Cible de pulvérisation de chrome Description Le chrome est l'un des métaux les plus populaires au monde. Les produits en chrome peuvent être largement utilisés dans divers domaines techniques et

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Cible de pulvérisation de chrome métallique

Caractéristiques et application de la cible de pulvérisation de chrome métallique Le chrome est un métal de transition gris acier, brillant, dur et cassant, son utilisation principale est de

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Cible de pulvérisation de bore

Boron Sputter Target Application Le bore métallique a une large gamme d'applications et peut être utilisé comme catalyseur dans l'industrie céramique et la synthèse organique, comme carburant à haute

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Cible de pulvérisation de bore

Description de la cible de pulvérisation de bore Le processus de pulvérisation consiste principalement à déposer un film mince de métal ou d'oxyde pulvérisé de très haute pureté sur un autre substrat

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