Cible de pulvérisation en titane de haute pureté
Description et application de la cible de pulvérisation de titane de haute pureté
Le titane est un métal réfractaire paramagnétique à forte ténacité et haute résistance, en particulier dans un environnement sans oxygène. Pour les cibles, plus la pureté chimique du métal est élevée, meilleure est la conductivité du film fabriqué à partir de celui-ci. La pureté des cibles de pulvérisation en titane atteint 99,99 %. Il est principalement fabriqué par refroidissement par faisceau d'électrons et méthode de fusion, et enfin différentes tailles et spécifications de cibles sont réalisées par divers traitements mécaniques. Le film mince préparé par la cible de pulvérisation de titane de haute pureté produite par notre société a non seulement une luminosité élevée, une forte adhérence , épaisseur et durabilité uniformes, mais a également une forte conductivité électrique, une résistance à l'usure et une résistance à la corrosion. La cible de pulvérisation de titane de haute pureté est l'un des matériaux de base pour la préparation de circuits intégrés et est largement utilisée dans les revêtements d'outils matériels, les revêtements automobiles, les revêtements décoratifs, les revêtements de verre, les revêtements d'affichage à écran plat et les dispositifs semi-conducteurs et d'autres domaines.
Cible de pulvérisation en titane de haute puretéCaractéristiques:
Technique | Frittage, forgeage, recuit, laminage, fusion sous vide, usinage |
Pureté | 99,9 % -99.995 % |
Diamètre | 10-1000mm |
Épaisseur | 1-100mm |
Densité | 4.5g/cm3 |
Surface | Poli, brillant, nettoyage chimique, oxyde noir, etc. |
Forme | Disque, plaque, rectangulaire, carré, cibles de colonne, |
Standard | ASTM B348, GB, JIS |
Certificat | ISO9001, ISO14001 |
Images de cible de pulvérisation de titane de haute pureté :


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