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Cibles de pulvérisation titane-silicium
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Cibles de pulvérisation titane-silicium

Cibles de pulvérisation titane-silicium

Cibles de pulvérisation titane-silicium Description Les cibles de pulvérisation titane-silicium peuvent fournir des couches de matériaux durs en nitrure avec d'excellentes propriétés, car le silicium garantit une résistance élevée à l'oxydation, tandis que le titane offre une dureté et une résistance à l'usure spéciales. La combinaison de ces deux...
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Product Details ofCibles de pulvérisation titane-silicium

Description des cibles de pulvérisation titane-silicium

Les cibles de pulvérisation titane-silicium peuvent fournir des couches de matériaux durs en nitrure avec d'excellentes propriétés, car le silicium garantit une résistance élevée à l'oxydation, tandis que le titane offre une dureté et une résistance à l'usure spéciales. La combinaison de ces deux éléments peut être utilisée à des températures très élevées Le fond est résistant à l'usure. Les cibles de pulvérisation titane-silicium sont des cibles en alliage très couramment utilisées dans la technologie de pulvérisation magnétron, qui peuvent être transformées en cibles en forme de disque, tubulaires et en forme de plaque par un processus de coulée. Son objectif principal est de recouvrir les moules et les outils de revêtements durs et résistants à l'usure, ce qui peut améliorer l'efficacité du travail et prolonger la durée de vie des outils de traitement. Les cibles de pulvérisation de titane-silicium ont les caractéristiques d'une résistance mécanique élevée, d'une bonne résistance à l'usure, d'une forte résistance à la corrosion et d'une bonne résistance aux chocs, adaptées au revêtement de verre automobile, à l'industrie du revêtement d'affichage, à l'industrie des semi-conducteurs, à l'ingénierie électronique, au traitement des métaux et à l'industrie de la décoration, etc.

Cibles de pulvérisation titane-silicium Caractéristiques:

Grade

85:15at pour cent, 80:20at pour cent, 75:25at pour cent, 70:30at pour cent, etc.

Technique

Pressage isostatique à chaud, soudage, frittage, forgeage, recuit

Pureté

99,9 % -99.99 %

Densité

4.37g/cm3

Épaisseur

3mm-30mm

Longueur

10mm-2000mm

Diamètre circulaire

50-100mm

Taper

Planaire, Tube, Disque, Cylindrique

Surface

Poli, nettoyage alcalin, meulage, oxyde noir, etc.

Certificat

ISO 9001

Images des cibles de pulvérisation titane-silicium :

Titanium Silicon Alloy Sputter Target

TiSi Alloy Sputtering Target

 

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