+8613140018814
Cibles de pulvérisation planaire en titane et silicium
video
Cibles de pulvérisation planaire en titane et silicium

Cibles de pulvérisation planaire en titane et silicium

Cibles de pulvérisation planaire de silicium et de titane Description Le siliciure de titane est un composé inorganique qui est généralement produit en utilisant des techniques de siliciure sur des lignes de silicium et de polysilicium pour réduire la résistance de feuille des connexions de transistor locales. Pulvérisation Planaire Titane Silicium...
Envoyez demande
Product Details ofCibles de pulvérisation planaire en titane et silicium

Description des cibles de pulvérisation planaire en titane et silicium

Le siliciure de titane est un composé inorganique qui est généralement produit en utilisant des techniques de siliciure sur des lignes de silicium et de polysilicium pour réduire la résistance de feuille des connexions de transistor locales. Les cibles de pulvérisation planaire en titane et silicium sont généralement produites par la technologie HIP avancée, qui présente une série d'avantages tels qu'une dureté élevée, une faible usure, une excellente résistance aux chocs thermiques, une pureté élevée, un grain fin et uniforme, une longue durée de vie, une résistance élevée à l'oxydation et un revêtement élevé. qualité . Les cibles de pulvérisation planaire en titane et silicium sont un excellent matériau pour le revêtement métallique. Les outils de quincaillerie qui en sont revêtus sont très résistants à l'usure, de sorte qu'ils peuvent travailler à des vitesses de coupe élevées et peuvent même traiter des alliages de nickel et des matériaux en titane très durs. Les cibles de pulvérisation planaire en titane et silicium sont également très appropriées pour une application dans l'industrie des semi-conducteurs, la décoration, l'affichage, les dispositifs LED et photovoltaïques, le revêtement de verre et d'autres industries.

Spécifications des cibles de pulvérisation plane de titane et de silicium :

Grade

Ti85Si15, Ti80Si20, Ti75Si25, Ti70Si30, etc.

Technique

Pressage isostatique à chaud, soudage, frittage, forgeage, recuit

Pureté

99,8 pour cent

Épaisseur

3mm-30mm

Longueur

10mm-2000mm

Diamètre circulaire

50-100mm

Densité

4.17-4.4.g/cm3

Taper

Cible de pulvérisation plane

Forme

Disques, plaques, cibles de colonne, cibles d'étape, sur mesure

Surface

Poli, nettoyage alcalin, meulage, oxyde noir, etc.

Certificat

ISO 9001

Images de cibles de pulvérisation planaire de titane et de silicium :

Titanium Silicon Planar Sputter Target

Titanium Silicon Sputtering Target

étiquette à chaud: Cibles de pulvérisation planaire de titane et de silicium, fournisseurs, fabricants, usine, sur mesure, vente en gros, prix, devis, à vendre

Envoyez demande

(0/10)

clearall