Cible de pulvérisation ronde au bore
Description de la cible de pulvérisation ronde au bore
La cible de pulvérisation ronde au bore est un matériau utilisé pour la préparation de films. Il est fabriqué à partir de matériaux borurés par métallurgie des poudres (pressage de poudre métallique à haute température et haute pression) ou par fusion à l'arc sous vide (fusion par chauffage à l'arc dans une chambre à vide). Puis solidifié sur la cible), il possède d'excellentes propriétés telles que des performances de traitement élevées, une stabilité thermique élevée, une densité élevée, une bonne résistance à la corrosion, une résistance mécanique élevée, une qualité de revêtement élevée, une résistance à l'usure et une longue durée de vie. La cible de pulvérisation ronde au bore est principalement utilisée pour préparer divers films fonctionnels, tels que des revêtements durs, des films magnétiques, des films optiques, des films antireflet, etc., pour la pulvérisation sur des équipements électroniques, des puces semi-conductrices, des cellules solaires, des dispositifs optiques et d'autres hautes performances. décorations de fin Fournitures etc. Si nécessaire, n'hésitez pas à nous contacter par email.
Spécifications de la cible de pulvérisation ronde au bore :
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Matériel |
Bore(B) |
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Technique |
Pressage isostatique à chaud, raffinement du grain, frittage, forgeage, recuit |
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Pureté |
99.5%,99.9%, 99.99% |
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Diamètre |
Inférieur ou égal à 480 mm |
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Épaisseur |
Supérieur ou égal à 1 mm |
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Densité |
2,34 g/cm3 |
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Point de fusion |
2300 degrés |
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Forme |
Disques, plaques, cibles colonnes, cibles étapes, sur mesure |
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Surface |
Poli, nettoyage alcalin, meulage, oxyde noir, etc. |
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Attestation |
ISO 9001 |
Images de cibles de pulvérisation rondes en bore :
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