Cibles rondes de pulvérisation en tungstène W
Cibles rondes de pulvérisation en tungstène Wsont fabriqués à partir de matériaux de tungstène de haute pureté grâce à un traitement par métallurgie des poudres et peuvent être largement utilisés dans les semi-conducteurs, le dépôt de couches minces (tels que les cellules solaires, les revêtements de composants optiques et de composants électroniques), l'industrie des sources lumineuses, les tubes à rayons X (tels que les appareils médicaux imagerie et analyse des matériaux), etc. Notre société possède de nombreuses années d'expérience professionnelle dans la production de métaux non ferreux et nos produits ont obtenu la certification ISO, vous pouvez donc les commander en toute confiance.
Avantage des cibles rondes de pulvérisation en tungstène W
1. En tant que matériau à haute densité, le tungstène peut absorber efficacement l'énergie des faisceaux d'électrons et produire une variété de faisceaux de rayonnements et de particules utiles.
2. Haute résistance à la traction, bonne ductilité et bonnes performances de traitement
3. Point de fusion élevé, conductivité thermique élevée et résistance aux températures élevées
4. Résistance à la corrosion, résistance à l'usure et longue durée de vie
5. L'utilisation de cibles en tungstène permet d'obtenir des films de tungstène d'une grande pureté, d'une bonne uniformité et d'une épaisseur précise.
Dimensions des cibles rondes de pulvérisation en tungstène W :
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Grade |
W1,W2 |
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Pureté |
Supérieur ou égal à 95 % |
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Diamètre |
0,5 mm-30 mm |
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Épaisseur |
1-10mm |
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Point de fusion |
3410 degrés |
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Densité |
18,75 g/cm3 |
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Surface |
Brillant |
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Délai de livraison |
25 jours |
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Standard |
ASTM, GB |
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Attestation |
ISO9001 |
Images de cibles rondes de pulvérisation en tungstène W


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