Cible planaire en zirconium 702
Description de la cible planaire en zirconium 702
Le zirconium est un élément métallique doté d'une excellente résistance à la corrosion, d'un point de fusion élevé et de bonnes propriétés mécaniques, ce qui le rend utile dans diverses applications, notamment les réacteurs nucléaires, l'aérospatiale et les implants médicaux. La cible planaire en zirconium 702 peut être fabriquée à l'aide d'une technologie de fusion sous vide ou de pressage isostatique à chaud, qui peut produire une structure cible de haute pureté, haute densité et uniforme pour améliorer les performances et la durée de vie des revêtements en couches minces. La cible planaire Zirconium 702 peut produire de la vapeur de zirconium de haute pureté dans des processus tels que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour former des films uniformes de haute qualité, et est utilisée dans la fabrication de films décoratifs pour semi-conducteurs, dispositifs optoélectroniques, revêtements d'outils et produits de première nécessité. Cela a joué un rôle important. La cible planaire en zirconium 702 fournie par notre société présente de tels avantages, n'hésitez pas à nous contacter par e-mail.
Spécifications de la cible planaire en zirconium 702 :
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Matériel |
Zirconium |
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Pureté |
R60702 |
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Densité |
6,52 g/cm3 |
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Largeur |
20-500mm |
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Longueur |
100 mm-3000 mm |
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Épaisseur |
>1mm |
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Surface |
Poli, brillant, nettoyage chimique, oxyde noir, etc. |
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Standard |
ASTM B550,ASTM B551,GB |
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Attestation |
ISO 9001 |
Images de cibles planaires en zirconium 702


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