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Cible ronde de pulvérisation de titane et de silicium
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Cible ronde de pulvérisation de titane et de silicium

Cible ronde de pulvérisation de titane et de silicium

Cible ronde de pulvérisation de titane et de silicium Caractéristiques et application En tant que matériau essentiel pour le processus de pulvérisation cathodique (processus de revêtement), les cibles de pulvérisation métallique sont généralement constituées de matériaux dotés de propriétés mécaniques élevées et d'une grande durabilité. Les cibles rondes de pulvérisation de titane et de silicium contiennent...
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Product Details ofCible ronde de pulvérisation de titane et de silicium

Caractéristiques et application de la cible ronde de pulvérisation de titane et de silicium

En tant que matériau essentiel pour le processus de pulvérisation cathodique (procédé de revêtement), les cibles de pulvérisation métallique sont généralement constituées de matériaux ayant des propriétés mécaniques élevées et une durabilité élevée. Les cibles rondes de pulvérisation de silicium en titane contiennent toutes les excellentes propriétés du silicium et du titane, telles qu'une dureté et une résistance élevées, des propriétés chimiques stables, une forte résistance aux hautes températures, une bonne résistance à l'ablation, une forte résistance aux chocs thermiques, une bonne résistance à l'usure, une longue durée de vie affinité, bon état de surface et structure de grain fine et stable. Les revêtements pulvérisés par les cibles rondes de pulvérisation de titane et de silicium peuvent protéger les outils et les composants utilisés dans les environnements à haute corrosion, à haute coupe et à très haute température, et sont très adaptés aux applications dans la fusion des métaux, la protection contre les incendies, les industries à haute température, l'aérospatiale, la construction. , génie électronique, procédé de pulvérisation magnétron et industrie du revêtement de verre et autres domaines.

Spécifications de la cible ronde de pulvérisation de titane et de silicium :

Composants chimiques

(en pourcentage)

Ti85Si15

Ti80Si20

Ti75Si25

Ti70Si30

Pureté

(pourcentage)

99.8

99.8

99.8

99.8

Densité

(g/cm3)

4.4

4.35

4.3

4.17

Taille d'un grain

(μm)

Inférieur ou égal à 100

Inférieur ou égal à 100

Inférieur ou égal à 100

Inférieur ou égal à 100

Conductivité thermique

(W/m.K)

18.5

20

22

23

Dimensions de spécification

(mm)

Cibles planes :

 

Inférieur ou égal à 1500*500

Cibles planes :

 

Inférieur ou égal à 1500*500

Cibles planes :

 

Inférieur ou égal à 1500*500

Cibles planes :

 

Inférieur ou égal à 1500*500

Grade

Ti85Si15, Ti80Si20, Ti70Si30, etc.

Technique

Pressage isostatique à chaud, soudage, frittage, forgeage, recuit

Épaisseur

3mm-30mm

Longueur

10mm-2000mm

Diamètre circulaire

50-100mm

Taper

Planaire, Tube, Disque, Cylindrique

Surface

Poli, nettoyage alcalin, meulage, oxyde noir, etc.

Certificat

ISO 9001

Images de cibles rondes de pulvérisation de silicium en titane:

AISi Alloy Sputtering Target

Aluminum SiliconAlSi Sputtering Target

FAQ

Q : Êtes-vous un fabricant ou une société commerciale ?

A:Nous sommes une société commerciale, mais nous pouvons vous fournir des produits de très haute qualité à un très bon prix. N'hésitez pas à nous envoyer un e-mail.

Q : acceptez-vous personnalisé ?

A:Oui, nous acceptons. Nous concevrons et fournirons des produits en fonction des informations spécifiques que vous donnez.

Q : Quel est votre coût d'expédition ?

R : Cela dépend principalement du poids, du volume, de la distance par rapport à la destination et de la taille du colis.

Q : Quel est votre délai de livraison ?

R : Une fois tous les produits fabriqués, nous vous les livrerons dans un délai d'environ 15-20 jours dès que possible.

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