Cibles de pulvérisation en titane et aluminium

Description des cibles de pulvérisation d'aluminium et de titane

La technologie de pulvérisation magnétron est l'une des technologies clés pour la préparation de matériaux à couches minces, et la cible de pulvérisation métallique est le matériau clé du processus de pulvérisation. Les cibles de pulvérisation d'aluminium et de titane présentent les excellentes caractéristiques du titane métallique et de l'aluminium métallique, telles qu'une ductilité élevée, une résistance élevée à l'usure, une excellente conductivité électrique et thermique, une microstructure optimale, une bonne durabilité, des performances de gravure et des performances de traitement Bonnes, bonnes performances de liaison avec le substrat, etc. Les cibles de pulvérisation d'aluminium et de titane peuvent pulvériser des revêtements de nitrure durs et résistants à l'oxydation (TiAlN) sur les perceuses, les fraises, les plaquettes de coupe indexables et d'autres outils, et améliorer la vitesse d'alimentation, les performances de coupe et la durée de vie des outils de traitement. Titanium Aluminium Sputter Targets produit également des couches adhésives et de recouvrement dans les circuits intégrés, des revêtements décoratifs pour les appareils électroniques (tels que des cadrans pour téléphones portables, des écrans plats ou des montres de luxe) et des revêtements en verre pour l'industrie automobile.

Spécifications des cibles de pulvérisation d'aluminium et de titane :

Images de cibles de pulvérisation d'aluminium titane:

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