Cible de pulvérisation de titane

FANMETAL fournit Pure 99.999% Titanium Sputtering Target. Pureté de 99,5% à 99,9999%. À l’heure actuelle, pour le VLSI de 4 mégabits, la pureté du titane doit atteindre 4N5 (99,995%) ~ 5N (99,999%), tandis que le VLSI de troisième génération de 16 mégabits nécessite la pureté du titane pour atteindre le niveau de 6N (99,9999%).

Nous fournissons également la cible métallique et le matériau d’évaporation à haute pureté 99,9999%, cible en métal précieux (Au, Ag, Pt), service de liaison cible, doublures de creuset (cuivre, molybdène, tungstène, etc.)

Image cible de pulvérisation de titane:

Les principales applications de Titanium Sputtering Target comprennent:

1. Matériel biologique

Le titane est un métal non magnétique et ne sera pas magnétisé dans un champ magnétique fort. Il a une bonne compatibilité avec le corps humain et n’a pas d’effets secondaires toxiques. Il peut être utilisé pour fabriquer des dispositifs d’implants humains. Généralement, les matériaux médicaux en titane n’atteignent pas le niveau de titane de haute pureté, mais compte tenu de la dissolution des impuretés dans le titane, la pureté du titane pour les implants doit être aussi élevée que possible. La littérature mentionne également que le fil de titane de haute pureté peut être utilisé comme matériau de cerclage biologique. En outre, l’aiguille d’injection de titane avec le cathéter intégré a également atteint le niveau de titane de haute pureté.

2. Matériaux de décoration

Le titane de haute pureté a une excellente résistance à la corrosion atmosphérique et ne changera pas de couleur après une utilisation à long terme dans l’atmosphère, assurant la couleur d’origine du titane. Par conséquent, le titane de haute pureté peut également être utilisé comme matériau de décoration de construction. En outre, ces dernières années, certaines décorations haut de gamme et certains articles de port, tels que des bracelets, des montres et des montures de lunettes, sont en titane, qui utilise les caractéristiques de résistance à la corrosion, de décoloration, de maintien à long terme d’une bonne brillance et de non-sensibilisation au contact de la peau humaine. La pureté du titane utilisé dans certaines décorations a atteint le niveau 5N.

3. Matériau aspiré

Le titane, en tant que métal très actif aux propriétés chimiques, peut réagir avec de nombreux éléments et composés à haute température. Le titane de haute pureté a une forte adsorption des gaz actifs (tels que o2, N2, CO, CO2 et vapeur d’eau au-dessus de 650 ° C). Le film Ti évaporé sur la paroi de la pompe peut former une surface à haute capacité d’adsorption. Cette propriété fait que Ti est largement utilisé comme getter dans les systèmes de pompage à ultra-vide. Si elle est utilisée dans les pompes à sublimation, les pompes ioniques de pulvérisation, etc., la pression de service ultime de la pompe ionique de pulvérisation peut être aussi basse que 10-9Pa.

4. Documents d’information électroniques

Ces dernières années, avec le développement rapide de domaines de haute technologie tels que la technologie des semi-conducteurs et les technologies de l’information, la quantité de titane de haute pureté utilisée dans les cibles de pulvérisation (voir Figure 1), les circuits intégrés, les DRAM et les écrans plats a augmenté. Les exigences de pureté des matériaux sont de plus en plus élevées. Dans l’industrie des semi-conducteurs VLSI, les composés de silicium titane, les composés azote titane, les composés titane tungstène, etc. sont utilisés comme barrières de diffusion et matériaux de câblage pour les électrodes de contrôle. La méthode de pulvérisation est utilisée pour fabriquer ces matériaux, et la cible en titane utilisée dans la méthode de pulvérisation nécessite une grande pureté, en particulier pour les éléments de métaux alcalins et les éléments radioactifs.

Au cours des dernières années, son équipement de pulvérisation correspondant a également commencé à utiliser du titane de haute pureté avec la même pureté que la cible de titane pulvérisé.

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