Cible de pulvérisation rotative en nickel-chrome

Description de la cible de pulvérisation rotative au nickel-chrome

Les cibles de pulvérisation rotative en nickel-chrome sont généralement fabriquées par fusion et coulée, après un processus d'électrolyse à trois couches, ainsi qu'une série de traitements mécaniques tels que le broyage, le lattage, le laminage et la coupe, avec une pureté allant de 99,5 % à 99,99 %. Les couches minces pulvérisées par les cibles de pulvérisation rotatives en nickel-chrome ont une faible dépendance à la température, une résistivité élevée, un coefficient de sensibilité élevé, une conductivité électrique et thermique élevée, une excellente résistance à l'oxydation, une microstructure uniforme, une surface lisse sans pores et une bonne durabilité, etc. Comparé à d'autres cibles de pulvérisation en alliage , il a de meilleures propriétés physiques et chimiques. Dans l'industrie des revêtements PVD ou CVD, les cibles de pulvérisation rotative au nickel-chrome et ses films sont largement utilisés dans les films de renforcement de surface tels que la résistance à l'usure, la réduction de l'usure, la résistance à la chaleur et la résistance à la corrosion, ainsi que le verre à faible émissivité, la microélectronique, l'enregistrement magnétique , semi-conducteurs et résistances à couches minces et autres industries de technologie haut de gamme.

Cible de pulvérisation rotative en nickel-chrome Caractéristiques:

Images de cibles de pulvérisation rotatives au nickel-chrome :

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