Cibles en cuivre de haute pureté
Cibles en cuivre de haute puretésont des cibles de processus PVD fabriquées à partir de matériaux en cuivre de haute pureté après métallurgie des poudres ou processus de fusion, principalement utilisées dans l'industrie des semi-conducteurs pour déposer des films de cuivre sur des circuits intégrés, et peuvent également être utilisées comme matériaux de contact arrière pour établir des connexions entre les cellules solaires et les circuits externes . Les cibles en cuivre de haute pureté sont également utilisées pour produire des revêtements décoratifs de haute qualité sur une variété de matériaux tels que le verre, les plastiques et la céramique afin de répondre aux exigences des clients en matière de brillance et de résistance à la corrosion des produits appliqués.
Avantage des cibles en cuivre de haute pureté
1. La grande pureté de la cible détermine la haute qualité, la bonne uniformité et l'absence d'impuretés du film déposé
2. Bonne conductivité thermique, dissipation thermique et résistance aux températures élevées
3. Haute densité, peut résister à une densité de puissance élevée sans fusion ni dégradation
4. Facile à traiter et à façonner sous diverses formes, notamment des disques, des rectangles et des cibles rotatives
5. Il peut être utilisé comme matériau de fond de panier pour fournir un support stable aux cibles de pulvérisation, améliorer l'efficacité de la pulvérisation et la durée de vie cible
Dimension des cibles en cuivre de haute pureté
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Matériel |
Cu |
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Pureté |
99.95% |
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Taille |
Φ60 x 16 mm |
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Épaisseur |
2,5 mm |
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Densité |
8,9 g/cm3 |
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Point de fusion |
1083 degrés |
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Surface |
Poli, lavage alcalin |
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Délai de livraison |
25 jours |
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Standard |
ASTM, GB, ANSI |
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Attestation |
ISO9001 |
Images de cibles de cuivre de haute pureté


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