Cible de pulvérisation en alliage AISi
Description de la cible de pulvérisation d'alliage AISi
La cible de pulvérisation est la matière première la plus importante dans la technologie de dépôt de film de revêtement, qui a des exigences élevées en matière de taille, de planéité, de douceur, de densité et de teneur en impuretés. La cible de pulvérisation d'alliage AISi fournie par notre société peut être de différents types, tels que des cibles de pulvérisation, des cibles circulaires rotatives ou des cibles rectangulaires plates, etc., qui ont une bonne dureté et planéité, des propriétés optiques supérieures, une bonne conductivité électrique et thermique et une haute pureté. Haute résistance à l'usure et durabilité et autres avantages. Les cibles de pulvérisation en alliage AISi ont un champ d'application plus large que les cibles métalliques ordinaires et des performances supérieures. Ils sont largement utilisés dans les circuits intégrés à semi-conducteurs, le photovoltaïque solaire, le verre conducteur transparent LCD, le verre architectural LOW-E, les écrans plats et le revêtement de surface des pièces. une large gamme d'applications.
Cible de pulvérisation en alliage AISiCaractéristiques:
Matériel | AlSi80-20 |
Technique | Pressage isostatique à chaud, frittage, forgeage, recuit |
Pureté | 99,9 % -99.999 % |
Taper | Cible de pulvérisation planaire, cible de pulvérisation rotative, cathode Acr. |
Épaisseur | 40 mm |
Longueur | 10mm-2000mm |
Diamètre | 100 mm |
La densité | 2.7g/cm3 |
Façonner | Disques, Plaques, Étape, Rectangle, Tube |
Surface | Poli, nettoyage alcalin, meulage, oxyde noir, etc. |
Heure de livraison | 15-20 jours |
Certificat | ISO 9001 |
Images de cible de pulvérisation d'alliage d'AISi :
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