Cibles de pulvérisation de nickel à 99,99 %

Description des cibles de pulvérisation de nickel à 99,99 %

Le matériau cible est le matériau utilisé comme source de pulvérisation ou d'évaporation dans le processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) ou de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), et sa pureté détermine la qualité du revêtement. Les cibles de pulvérisation à 99,99 % de nickel sont les cibles les plus couramment utilisées pour fabriquer des films minces pour les dispositifs semi-conducteurs. Ils sont utilisés pour fabriquer des MRAM, des dispositifs de type réseau neuronal, des matériaux thermoélectriques, des cellules solaires, etc., afin d'améliorer le taux de conduction et la durée de vie des appareils électroniques.
Caractéristiques des cibles de pulvérisation à 99,99 % de nickel
1. Bonne usinabilité : il peut être facilement transformé dans la forme et la taille souhaitées grâce à diverses technologies d'usinage
2. Forte résistance à la corrosion : il peut fonctionner de manière stable dans des environnements difficiles, tels que le maintien de performances stables dans des conditions acides ou alcalines, particulièrement adapté aux environnements industriels présentant une forte corrosion chimique.
3. Haute pureté : la pureté est supérieure à 99,99 %, ce qui peut réduire efficacement l'introduction d'impuretés et améliorer les performances du produit final.
4. Bonne conductivité thermique et électrique, haute résistance et bonne ductilité
5. Microstructure uniforme, propriétés électriques et magnétiques spécifiques, longue durée de vie

Spécifications des cibles de pulvérisation de nickel à 99,99 % :

Image des cibles de pulvérisation de nickel à 99,99 %

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