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Cible de pulvérisation de borure de titane

Cible de pulvérisation de borure de titane

FANMETAL fournit la cible de pulvérisation tiB2 en borure de titane utilisée dans le système de revêtement PVD. Nous fournissons également d’autres métaux cible et matériau d’évaporation à haute pureté 99.9999%, cible de métaux précieux (Au , Ag , Pt) , service de liaison cible , doublures de creuset (cuivre , molybdène , tungstène, etc.), cibles de pulvérisation en céramique.
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Product Details ofCible de pulvérisation de borure de titane

Cible de pulvérisation de borure de titane

FANMETAL fournit la cible de pulvérisation tiB2 en borure de titane utilisée dans le système de revêtement PVD. Nous fournissons également d’autres métaux cible et matériau d’évaporation à haute pureté 99.9999%, cible de métaux précieux (Au , Ag , Pt) , service de liaison cible , doublures de creuset (cuivre , molybdène , tungstène, etc.), cibles de pulvérisation en céramique.


Le borure de titane (TiB2) est le composé le plus stable du bore et du titane. Il a une bonne conductivité électrique, un lustre métallique, une dureté et une fragilité élevées.

la poudre est grise ou gris-noir, point de fusion: 2980 °C, densité: 4,52 g/cm³n, la température de résistance à l’oxydation peut atteindre 1000 °C dans l’air et elle est stable dans l’acide HCl et HF.


Titanium Boride Sputtering Target est principalement utilisé pour préparer des produits céramiques composites; il peut également être utilisé pour les matériaux céramiques conducteurs, les outils de coupe en céramique et les moules, etc.; parce qu’il peut résister à la corrosion du métal fondu, il peut être utilisé pour la fabrication de creusets en métal fondu et d’électrodes de cellules électrolytiques.

Image de la cible de pulvérisation de borure de titane:


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