Cible d'oxyde de niobium

Description de la cible d'oxyde de niobium

La technologie de pulvérisation cathodique permet de déposer des films de métal ou d'oxyde pulvérisés de très haute pureté sur un autre substrat solide. Des films de Nb2O5 sont préparés par pulvérisation cathodique et l'application de matériaux d'oxyde de niobium dans des diélectriques hautement diélectriques, des revêtements antireflet et des matériaux sensibles aux gaz est explorée. La cible d'oxyde de niobium est généralement constituée de pentoxyde de niobium grâce à un traitement par métallurgie des poudres ou à une technologie de pulvérisation magnétron. Il présente une densité élevée, une pureté élevée, une granulométrie moyenne minimale, une bonne stabilité électrochimique et des caractéristiques de transmission électronique, un indice de réfraction élevé et une faible dispersion, une résistance aux températures élevées, une résistance à la corrosion, une durabilité et d'autres excellentes propriétés physiques et chimiques.

La cible d'oxyde de niobium peut non seulement être utilisée pour préparer des films d'oxyde de niobium, des nanofils et d'autres nanostructures de haute qualité, mais également pour préparer des dispositifs électrochimiques tels que des cellules solaires efficaces et des batteries lithium-ion, ainsi que pour préparer une protection thermique et résistante à la corrosion. matériaux de revêtement.

Spécifications de la cible d’oxyde de niobium :

Images cibles d’oxyde de niobium

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