Cible de pulvérisation de bore

Description de la cible de pulvérisation de bore

Le processus de pulvérisation cathodique consiste principalement à déposer un film mince de métal ou d'oxyde pulvérisé ultra-pur sur un autre substrat solide, et à contrôler l'élimination et la conversion du matériau cible en une phase gaz/plasma dirigée par bombardement ionique. Le bore est un élément peu abondant du système solaire et de la croûte terrestre. C'est un faible conducteur à température ambiante et un bon conducteur à haute température. La cible de pulvérisation de bore a d'excellentes propriétés physiques et chimiques, un point de fusion élevé, la plus petite taille de grain moyenne, une résistance à la corrosion à haute température, une bonne durabilité, une bonne conductivité électrique et des performances de coût élevées. Il s'agit d'un procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD) d'excellents matériaux de préparation. Les cibles de pulvérisation de bore sont largement utilisées, principalement dans l'industrie nucléaire, l'industrie du revêtement de verre, l'industrie de l'information électronique, l'industrie chimique, la biomédecine, l'industrie aérospatiale, les produits décoratifs haut de gamme et l'industrie de la fusion des métaux, etc.

Spécifications de la cible de pulvérisation de bore :

Images de cible de pulvérisation de bore :

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